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第七百一十七章 技术秘密(1/3)

    而能够量产6英寸晶圆,不仅仅民用电子产品会受益,而且航天、军工、科研等等方面,也能因为更高品质的晶圆材料而受益!

    1986年7月,火热的天气,阻挡不住维创半导体公司热火朝天的建设和生产激情。

    因为单晶炉热屏技术带来的红利,预计将会给维创半导体公司节省1亿元的成本。而随着这项技术应用越来越广泛,预计在明年、后年将会贡献更多的经济效益。

    这种极大程度节能和降低成本的技术,其在半导体产业的意义,完全不亚于先进的光刻机。而且,比光刻机能更快的推广和应用。

    因为,这项技术太简单了,想要保密的难度,也远远超过光刻机。光刻机即使是明白了原理,但全世界也找不到多少家公司制造。即使是制造一台不算最先进的光刻机,也是需要成千上万的配套厂商配合,才能给造的出来。

    至于,单晶炉就比较简单了,即使加上热屏,也并不是太复杂。这个秘密,基本上只要被对手知晓,应该是不费吹灰之力,就能够倒腾出类似的技术。

    所以从一开始热屏技术根本就不会申请专利,而是准备增强保密措施,避免对手知道有这项技术。

    刘焱也清楚的意识到一项技术问世之后,迟早是会泄露出去的。

    “热屏技术的秘密,至少要守三年!”

    在古代因为交通的不便,技术扩散可能需要几百年甚至上千年。比如,东亚地区至少在公元前就有了纺车技术,但是技术扩散到欧洲则是一千多年之后,才由欧洲的航海殖民将亚洲的先进纺织技术带到了欧洲。

    而到了工业革命之后,交通和通讯越来越发达之后,技术扩散速度也越来越快。也正是因为保密的难度越来越大,技术专利才成为维护发明者利益的主要手段。

    热屏技术不可能永久保密,即使技术不外泄,到了90年代初,米国的半导体行业,就已经成功研发出了单晶炉热屏。

    也正是因此,刘焱才争取技术保密三年以上。利用三年时间,充分的发展,积累更多的规模和技术红利。逐渐缩短跟国际半导体巨头的规模和技术差距之后,今后技术水平差距不大,大家拼产能和成本,那就是维创集团比较擅长的领域了。

   

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