第三百四十六章 挖光刻胶友商祖坟？陈星还让不让人活了？(3/10)

了哪扇门啊？你这个男人真特么完美到无可挑剔！”

    “这讲述水平绝了，哪怕陈总是背诵稿子的，能够记住这么多，那也是天才级别。”

    “大伙说有没有可能，其实陈总表面是公司首席总裁，实际背地里还有一层身份，那就是龙兴科技公司的首席科学家？”

    “还真别说，确实有这个可能。”

    “好好好，反差男是吧？”

    过硬的业务水平，言简意赅的讲解让陈星收获了掌声与称赞，不过他也只是停顿了片刻，待现场掌声稍稍减弱，他压了压手，示意安静下来道：

    “现在大家都对光刻抗阻有了一定的认知，那我就不得不再提光刻抗阻为什么可以反应出纯度，亦或者说品质。”

    “玩过光源聚焦的都知道，光束越集中，单点能量就越强，这个大家可以拿个放大镜去聚焦太阳光，我就不过多赘述了。”

    “目前的光刻机光源，分为已经半淘汰的248纳米，主要用于90纳米以上的光刻，其次是193纳米光源和135纳米光源，这里值得注意的是，135纳米光源只有euv光刻机可以做到。”

    “光源越小，能量密度越高，相对应的精准度也会越高，这就给我们光刻工程师提供了更高工艺水准芯片的温床，14纳米工艺芯片用的就是135纳米光源。”

    “之前我也提到了，光束越集中，光刻的能量就越强，如果光刻胶抗阻型弱，是不是很容易造成半导体硅片污染？”

    问题抛出，全场来宾都微微颔首，认同陈星的说法。

    罗浩更是凑近雷布斯，小声感慨道：“还别说，陈老弟完全可以去高校当教授了，居然连我都听得懂什么叫光刻抗阻。”

    “这就叫积累，好好学吧。”

    雷布斯淡淡回应。

    陈星不拿任何提示稿件，现场也没有提词器，却可以把光刻抗阻讲述这么透彻，要说没下苦功夫那是不可能的。

    而在所有观众对光刻抗阻和光源有了一定认知后，陈星继续讲述道：“因此想要造7纳米、5纳米甚至是3纳米芯片，光刻胶的抗阻性必须要跟上工艺进度，所以我们这款1025光刻胶理论支持…”

    陈星按下手心的遥控器，led