第八十二章 时间紧迫，提前囤积零件(2/5)

高温促进光敏剂的扩散，一定程度上弥补了光强分布不均的问题，在显影过程中可以得到更均匀的图案剖面。”

    声音不大，却传遍实验室。

    龙芯国际的工程师没有迟疑，立马掏出记事本记录。

    别看这位“林工”年轻，他在光刻领域的成就与造诣，早已经远超在场所有人。

    然而。

    就在这时。

    赶了最近一班飞机，连夜飞回来的冯承铭开口道：“如果用氧化铬做为抗反射层，也能消除大部分的驻波效应？”

    “嗯。”

    林天点了点头，脱口而出道：“用氧化铬做为抗反射层，厚度20纳米，可以有效解决驻波效应。”

    冯承铭：“为什么是20纳米？”

    “20纳米的厚度，已经可以解决大部分驻波效应，21纳米，用不上，19纳米不够用。”

    林天淡淡回答道。

    两人的一问一答，让默默观看的陈星惊叹，红色品质人才果然有点变态啊！

    舌战群儒，有问必答。

    “刚才说话的那个老头，就是龙芯国际的光刻首席。”曲程压低了几分音量介绍道。

    “原来是他。”

    陈星忍不住笑了笑，这位老爷子可太传奇了。

    吹个牛逼，把一群院士都唬住，如果能证实可以利用多重曝光技术实现14纳米芯片，那他吹的牛也算实现了。

    “制造光掩膜版的时间比较漫长，单次流片的时间都要1到3天，我建议陈总还是不要等了，公司可不能没有你。”

    曲程提了个醒道。

    单次要1到3天，经过林天推算，14纳米芯片掩膜版，一共要经历50次左右流片，才能最终进行封装使用。

    最快也要50天时间，这时间还真是紧迫啊。

    双十一是赶不上了，陈星只能寄托于双十二能见到14纳米轻舟处理器芯片的样品。

    哪怕只有一枚，也能组装出一台样板机，方便他后续召开新旗舰手机发布会。

    目睹完林天实力，再次认识到红色品质人才变态程度后，陈星也听从曲程的提议道：

    “嗯，既然流片时间这么漫长，那我今晚就