第二百二十二章 夸张的智云(3/3)

片面的制裁，也不用太担心，可以通过一些手段来解决芯片问题。

    以上这些是设备，徐申学在诸多耗材领域也保持了极大的关注。

    半导体生产线可不仅仅是设备问题，实际上各类耗材，比如光刻胶，特种气体也是非常重要的，而这些方面的国产化也无限接近于零。

    仙女山控股旗下的不少子公司，都是从事这些半导体耗材领域的研究……

    旗下从事光刻胶研发的华赛电子，光刻胶领域里进展还算可以，负胶基本没问题，高分辨率的g线、i线光刻胶之前也已经陆续解决。

    更高分辨率，用于深紫外线光刻，在248纳米波长，也就是krf光刻机上使用的光刻胶已经进行小规模的测试，智云微电子那边是一边测试一边用，但是问题比较多，目前还处于继续改进当中，并没有大规模直接使用。

    乃是勉勉强强也可以说，华赛电子已经搞定了芯片生产里130纳米工艺节点的光刻机的技术问题，只要有需求的话，那么扛着高成本也一样能够供应智云微电子或者国内其他芯片厂家使用。

    同时更先进的193纳米光源波长的光刻机，也就是用于duv干式光刻机乃至现在最先进的duv浸润式光刻机上的使用的光刻胶面临的问题要更大一些。

    徐申学看过仙女山控股转发的一些报告，说是什么现有的光刻胶材料里含有苯环结构，导致193纳米波长的光源吸收太高而无法使用！

    这意味着需要重新开发一种光刻胶材料，至于什么时候才能搞出来，这种材料学的问题都是玄学问题，华赛电子也给不了一个准确的时间表！

    他们能够做的就是尽可能的展开更多的研发，同时试验更多不同的材料组合，然后才能够搞出来。

    各种特种气体的情况也和光刻胶比较类似，低制程工艺里的特种气体基本都能自行解决，但是用于更高工艺制程的就有些欠缺了。